Material processing by plasma shock wave generated in an inverse z-pinch "plasma expander".

• Processo: 02/01949-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 15 de julho de 2002
• Data de Término da vigência: 19 de julho de 2002
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas
• Pesquisador responsável: Munemasa Machida
• Beneficiário: Munemasa Machida
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Implantação iônica Processamento de materiais Filmes finos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Expansor De Plasmas | Filmes Finos | Implantacao Ionica | Ondas De Choque Em Plasma | Processamento De Materiais | Z-Pinch Inverso