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Dielectric characteristics of ain films grown by dc-magnetron sputtering discharge.

Processo: 00/06970-1
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
Data de Início da vigência: 03 de setembro de 2000
Data de Término da vigência: 08 de setembro de 2000
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
Pesquisador responsável:Marcos Massi
Beneficiário:Marcos Massi
Instituição Sede: Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
Assunto(s):Pulverização catódica 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Ain Films | Aluminium Nitride | Electrical Characteristics | Sputtering | Structural Characteristics
Matéria(s) publicada(s) na Agência FAPESP sobre o auxílio:
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