Dielectric characteristics of ain films grown by dc-magnetron sputtering discharge.

• Processo: 00/06970-1
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 03 de setembro de 2000
• Data de Término da vigência: 08 de setembro de 2000
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Marcos Massi
• Beneficiário: Marcos Massi
• Instituição Sede: Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Pulverização catódica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Ain Films | Aluminium Nitride | Electrical Characteristics | Sputtering | Structural Characteristics