Tching of dlc films exposed to a plasma jet.

• Processo: 06/55716-7
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 18 de setembro de 2006
• Data de Término da vigência: 22 de setembro de 2006
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Marcos Massi
• Beneficiário: Marcos Massi
• Instituição Sede: Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Tecnologia de plasma Microscopia de força atômica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Afm | Dlc Films | Plasma Etching | Plasma Technology | Rf Plasmas | Surface Activation