Electrical condution mechanisms of nitrogenated amorphous carbon films deposited by high density plasma chemical vapor deposition.

• Processo: 04/02914-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 28 de junho de 2004
• Data de Término da vigência: 02 de julho de 2004
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Marcos Massi
• Beneficiário: Marcos Massi
• Instituição Sede: Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Tecnologia de plasma
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Dlc Films | Electric Properties | Plasma Technology