Full complex amplitude modulation proximity printing mask fabricated on dlc and sio2 substrates.

• Processo: 02/03413-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Exterior
• Data de Início da vigência: 03 de junho de 2002
• Data de Término da vigência: 06 de junho de 2002
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Telecomunicações
• Pesquisador responsável: Luiz Gonçalves Neto
• Beneficiário: Luiz Gonçalves Neto
• Instituição Sede: Escola de Engenharia de São Carlos (EESC). Universidade de São Paulo (USP). São Carlos , SP, Brasil
• Assunto(s): Óptica difrativa
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Complex-Amplitude Modulation | Diffractions | Diffractive Optics | Fourier Hologram | Fourier Optics