Phase-shift photomask designed by scalar diffraction theory.

• Processo: 09/52942-4
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reunião - Brasil
• Data de Início da vigência: 31 de agosto de 2009
• Data de Término da vigência: 03 de setembro de 2009
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Giuseppe Antonio Cirino
• Beneficiário: Giuseppe Antonio Cirino
• Instituição Sede: Centro Universitário Central Paulista (UNICEP). Associação de Escolas Reunidas (ASSER). São Carlos , SP, Brasil
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Diamond Like Carbon | Phase Shift Mask | Phtolithography