Estudo e desenvolvimento de processos de deposição química a vapor enriquecida por plasma utilizando organo-silanos como reagentes

• Processo: 01/13640-0
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Programa Capacitação - Treinamento Técnico
• Data de Início da vigência: 01 de janeiro de 2002
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 2002
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Nicole Raymonde Demarquette
• Beneficiário: Lucas Albuquerque Lima
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 01/05382-1 - Estudo e desenvolvimento de processos de deposição química a vapor enriquecida por plasma utilizando organo-silanos como reagentes, AP.R
• Assunto(s): Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)