Comissionamento de um sistema de litografia por feixe de elétrons de alta tecnologia.

• Processo: 25/25979-7
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Programa Capacitação - Treinamento Técnico
• Data de Início da vigência: 01 de janeiro de 2026
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 2027
• Área de conhecimento: Interdisciplinar
• Pesquisador responsável: Newton Cesario Frateschi
• Beneficiário: Rodrigo Reigota César
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 22/11526-2 - EMU científico: aquisição de sistema de nanolitografia por feixe de elétrons de 100 kV para fabricação de alto rendimento de dispositivos com alta precisão, AP.INFRA7.CI
• Assunto(s): Litografia Nanotecnologia Processos de fabricação
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: e-beam | Litografia | Nanotecnologia | processos de fabricação | Treinamento técnico | litografia por feixe de elétrons

Resumo

Propomos um plano de trabalho para o treinamento técnico de um operador que acompanhará o processo de comissionamento de um sistema de litografia por feixe de elétrons (EBL) de alta tecnologia, o primeiro do gênero no Brasil. O treinamento será supervisionado pela equipe técnica do Centro de Componentes Semicondutores e Nanotecnologia (CCSNano) e pelos pesquisadores dos projetos associados. Como parte de suas atribuições, o estagiário construirá uma base de conhecimento online contendo instruções para a operação do instrumento em níveis básico e avançado, além de um conjunto de receitas básicas para litografia que utilizam as principais funcionalidades do equipamento. (AU)