Estudo da influência do campo magnético sobre a taxa de deposição de filmes de carbono e ativação de feltros de carbono a partir de plasmas frios

• Processo: 99/02820-6
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de agosto de 1999
• Data de Término da vigência: 31 de julho de 2001
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Gilberto Petraconi
• Beneficiário: Henrique Abrahao Alves
• Instituição Sede: Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
• Assunto(s): Campo magnético Plasma frio Baixa pressão Deposição de filmes finos Estudos experimentais
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Ativacao De Feltros De Carbono | Campo Magnetico | Filmes Finos De Carbono | Materiais Carbonos

Resumo

O presente trabalho propõe um estudo experimental da influência de um campo magnético sobre a taxa de deposição de filmes de carbono pela técnica de "Sputtering" e sobre a variação da área superficial especifica de feltros de carbono devido ao processo de corrosão por plasmas de gases oxidantes (ativação). Estes materiais serão processados numa descarga de corrente continua a baixa pressão. Na primeira parte do trabalho, serão depositados filmes finos de carbono em substratos de silício por pulverização de um catodo de grafite utilizando-se um plasma de argônio. Na segunda parte, amostras de feltros de carbono serão submetidas ao processo de corrosão por plasma de oxigênio e vapor d'água à baixa pressão. Serão fixados os parâmetros ótimos de operação do processo, como temperatura do substrato, fluxo de gases, tensão de polarização de substratos e alvos, etc., variando-se o campo magnético externo entre zero e 4000 Gauss gerado por um eletroímã e o tempo de processo. (AU)