Influencia do substrato nas propriedades de filmes finos de "srbi2ta209" preparados por metodo quimico.

• Processo: 00/11855-7
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de março de 2001
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 2001
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Química - Físico-química
• Pesquisador responsável: Edson Roberto Leite
• Beneficiário: Vanessa Cristina Machado Sotilo
• Instituição Sede: Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia (CCET). Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). São Carlos , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 00/01991-0 - Síntese e caracterização de filmes finos e cerâmicas ferroelétricos, AP.TEM
• Assunto(s): Filmes finos Método dos precursores poliméricos Materiais ferroelétricos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Ferroeletricos | Filmes Finos | Precursores Polimericos | Srbieta209

Resumo

A proposta deste projeto de pesquisa é de preparar filmes de SrBi2Ta2O9 (SBT) processados pelo método químicos dos precursores poliméricos com deposição sobre metálicos, semicondutores e monocristais óxidos, com diferentes orientações para se estudar a influência dos substratos sobre a estrutura e microestrutura dos filmes. A deposição será através de "spin coating" e "dip coating". Após a deposição, os filmes serão tratados termicamente de forma a se obter filmes com uma matriz amorfa, com baixa concentração de carbono. Esses filmes serão submetidos a diferentes tratamentos térmicos, inclusive tratamento rápido do tipo RTA ("rapid thermal annealing"). Serão utilizados substratos monocristalinos de MgO (001), silício recoberto com platina (Si(100)/Pt), Si (111) e Si (100). Na caracterização, pretende-se utilizar técnicas microestruturais, tais como: Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV), Microscopia de Força Atômica (MFA) para caracterização da morfologia da superfície. Também será utilizada à Difração de Raios X (DRX) para caracterizar a cristalização. A transmitância dos filmes depositados sobre MgO (001) será medida por espectrometria na região UV-VIS. (AU)