Interface silica-zirconia tetragonal em películas delgadas

• Processo: 04/01771-1
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de maio de 2004
• Data de Término da vigência: 30 de setembro de 2004
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Milton Ferreira de Souza
• Beneficiário: Leonardo Faria Carvalho
• Instituição Sede: Instituto de Física de São Carlos (IFSC). Universidade de São Paulo (USP). São Carlos , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 98/14270-8 - Centro de Ciências Ópticas e Fotônica, AP.CEPID
• Assunto(s): Espectroscopia de impedância Filmes finos Silicatos Condutividade iônica Zircônia
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Condutividade | Espectroscopia De Impedancia | Filmes Finos | Silica | Zirconia | Zirconia Tetragonal

Resumo

Pesquisar o comportamento da condutividade do contorno de grão em filmes espessos de zircônia tetragonal pura e dopada com sílica. A zircônia 3YTZ será depositada pela técnica de evaporação por feixe eletrônico sobre um substrato de platina que por sua vez foi obtido por deposição de platina sobre um substrato de zircônia. Nesses filmes com espessura da ordem de 1,0 micrometro serão depositados um novo eletrodo de platina por sputtering Uma vez caracterizado esse sistema quanto à sua condutividade por espectroscopia de impedância, EI, e MEV, um novo sistema será preparado. Desta vez depositando-se uma película de sílica (da ordem de alguns poucos nanometros) sobre a de zircônia seguida de uma película de platina. O sistema terá sua condutividade medida por El. Inicialmente a amostra será medida logo após a sua preparação e após subsequentes tratamentos térmicos até temperaturas elevadas de modo a se desenvolver interação com a zircônia. O espectro de EI será analisado em termos do efeito da carga espacial de Frenkel e da contribuição bloqueante da sílica com especial da evolução do tempo de relaxação da condutividade do contorno de grão. Numa segunda etapa serão estudados filmes multicamadas zircônia-sílica. (AU)