Desenvolvimento de microbalanca com cristal de quartzo para medicao da taxa de crescimento de filmes finos depositados a plasma

• Processo: 07/58570-6
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de abril de 2008
• Data de Término da vigência: 31 de março de 2009
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Medidas Elétricas, Magnéticas e Eletrônicas, Instrumentação
• Pesquisador responsável: José Roberto Ribeiro Bortoleto
• Beneficiário: Fernando Cleber de Souza
• Instituição Sede: Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus Experimental de Sorocaba. Sorocaba , SP, Brasil
• Assunto(s): Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Cristal Piezoeletrico | Deteccao De Gases | Interface De Aquisicao De Dad | Microbalanca De Quartzo | Pecvd | Taxa De Crescimento De Filmes

Resumo

Este projeto prevê o desenvolvimento de uma microbalança de quartzo dedicada à medição da taxa de crescimento de filmes finos depositados pela técnica de PECVD (do inglês Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Para tanto, será desenvolvido um circuito oscilador baseado em cristais de quartzo comerciais, juntamente com um circuito comparador de sinal e um freqüencimetro. A calibração da balança de quartzo será feita por meio da deposição de filmes finos e comparação com a espessura obtida por outros métodos de medição. Além disso, devem ser feitos a adaptação mecânica e o isolamento eletrônico do cristal de quartzo a ser introduzido dentro do ambiente de plasma. Por fim, os dados serão interfaceados para o computador via porta serial ou USB e apresentados em tempo real em um software dedicado. Este software será desenvolvido com o pacote de programação Builder C++. (AU)