Caracterizacao estrutural de filmes de sno2 por difracao de raios-x.

• Processo: 00/04204-0
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de julho de 2000
• Data de Término da vigência: 30 de junho de 2001
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Lisandro Pavie Cardoso
• Beneficiário: Bruno Valente Bigatto
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos Difração por raios X Propriedades estruturais
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Difracao De Raios-X | Filmes Finos | Propriedades Estruturais

Resumo

Neste projeto deve-se continuar a caracterização estrutural dos filmes de SnO2 depositados, medindo-se o tipo de cristalização, o tamanho e a orientação preferencial dos grãos, para diversos tipos de substratos (amorfos, cristalinos de diversas orientações e policristalinos), empregando-se difração de raios X. Procurar-se-á estabelecer uma relação entre as características estruturais e as condições de deposição, especialmente a temperatura de deposição, tipo de reagentes, concentração e fluxos, complementando as análises já realizadas anteriormente. Pretendemos também realizar essa caracterização acompanhada de medidas da resistividade elétrica, resistência ao ataque químico por via úmida e por plasma. Além disso, espera-se poder utilizar a microscopia de força atômica para estudar a superfície das amostras. (AU)