Crescimento e caracterização de filmes finos de metais de transição sobre substratos similares

• Processo: 04/15428-7
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de abril de 2005
• Data de Término da vigência: 31 de março de 2006
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Metalurgia Física
• Pesquisador responsável: Pedro Augusto de Paula Nascente
• Beneficiário: Raphael Piazzarollo Loureiro
• Instituição Sede: Centro de Ciências Exatas e de Tecnologia (CCET). Universidade Federal de São Carlos (UFSCAR). São Carlos , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos Metais de transição Ligas metálicas
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes Finos | Ligas Metalicas | Metais De Transicao | Superficies

Resumo

Os filmes finos de metais de transição apresentam interesse tecnológico significativo devido a suas aplicações como catalisadores e dispositivos magnéticos. As superfícies de sistemas bimetálicos apresentam propriedades físicas e químicas diferentes comparadas ao volume. A compreensão das estruturas atômica e eletrônica é crucial para projetar novos dispositivos. Em particular, neste projeto serão estudados filmes finos de metais de transição (Ni e Pd) depositados via pulverização catódica (sputtering) sobre substratos similares. Os filmes serão caracterizados por difratometria de raios X (XRD), microscopia de força atômica (AFM) e espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS). (AU)