Sintese e caracterizacao de filmes de nitreto de carbono cristalino.

• Processo: 97/13854-3
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de agosto de 1998
• Data de Término da vigência: 17 de abril de 2000
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Jianjun Wang
• Beneficiário: Jianjun Wang
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) Dureza Estrutura Nitreto de carbono
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Constantes Opticas | Dureza | Estrutura | Nitreto De Carbono | Pecvd

Resumo

Este Plano de Trabalho consta de um estudo de filmes de nitreto de carbono cristalino depositados pelas técnicas combinadas de PECVD e filamento quente em misturas CH4-N2-H2 e CH4-NH3-H2. O sistema de deposição possibilita o aquecimento do substrato (400-900 ºC) e a sua polarização elétrica por meio de uma voltagem de radiofreqüência com "offset" dc negativo (0-600 V). Especial atenção será dada à síntese de nitreto de carbono na fase p, ou seja, p-C3N4, um material cuja existência foi prevista em trabalhos teóricos recentes e para o qual se espera um grau de dureza comparável à do diamante. As análises da estrutura cristalina dos filmes serão feitas por difratometria de raios-X e difração de elétrons de modo a fazer uma comparação entre os parâmetros cristalográficos medidos e aqueles previstos para as diversas fases de nitreto de carbono. Para as medidas de dureza será empregada a técnica de nanoindentação, utilizando-se um instrumento que também irá possibilitar medidas de resistência ao risco e coeficiente de atrito. A tensão residual será também estudada usando-se o "bending beam method". Outras caracterizações importantes serão feitas empregando-se as técnicas de espectroscopia de espalhamento Rutherford (composição elemental), espectroscopia de foto-elétrons de raios-X e espectroscopia infravermelha (estrutura química), espectroscopia ultravioleta-visível (constantes ópticas e gap óptico). A flexibilidade no ajuste dos parâmetros de deposição permitida pelo procedimento a ser adotado possibilitará a obtenção de filmes de composição e estrutura diversificadas. (AU)