Elaboração e caracterização de revestimentos por deposição química de vapores organometálicos (MOCVD)

• Processo: 04/04756-3
• Modalidade de apoio: Bolsas no Exterior - Pesquisa
• Data de Início da vigência: 15 de setembro de 2004
• Data de Término da vigência: 14 de dezembro de 2004
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
• Pesquisador responsável: Marina Fuser Pillis
• Beneficiário: Marina Fuser Pillis
• Pesquisador Anfitrião: Marco Sacilotti
• Instituição Sede: Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares (IPEN). Secretaria de Desenvolvimento Econômico (São Paulo - Estado). São Paulo , SP, Brasil
• Instituição Anfitriã: Université de Bourgogne, França
• Assunto(s): Compostos organometálicos Resistência dos materiais Oxidação Alta temperatura
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Mocvd | Resistencia A Oxidacao | Revestimento

Resumo

A técnica de deposição química de vapores organometálicos (MOCVD) tem sido usada recentemente para proteger materiais metálicos expostos a altas temperaturas. Este trabalho de pesquisa tem como objetivos: a) Obtenção e caracterização de depósitos de micro e nanoestruturas de óxidos de cromo, alumínio, zircônio e ítrio isoladamente ou co-depositados sobre ligas à base de ferro; b) Obtenção e caracterização de depósitos de micro e nanoestruturas de GaAIIn e TiNO sobre Si; c) Estudo da interface entre as partículas micro/nanométricas e o substrato. Será feita uma correlação entre as variáveis do processo de deposição e as características dos revestimentos obtidos (estrutura cristalina, morfologia, composição química, aderência, etc.), utilizando-se várias técnicas de caracterização microestrutural. (AU)