Estudo experimental da deposição química espontânea de níquel sobre alumínio ou silício-policristalino visando a fabricação de microeletrodos e portas MOS

• Processo: 00/07158-9
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Mestrado
• Data de Início da vigência: 01 de outubro de 2000
• Data de Término da vigência: 31 de agosto de 2002
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Sebastiao Gomes dos Santos Filho
• Beneficiário: Alan Rodrigo Navia
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos Microeletrodos Alumínio Silício policristalino Avaliação de desempenho
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Electroless | Films Finos

Resumo

Neste trabalho será feita a caracterização experimental de estruturas Ni/Al e Ni/Si-poli visando a fabricação de microeletrodos e estruturas de porta MOS. O controle de qualidade consistirá em obter-se camadas de níquel depositadas sobre alumínio ou silício policristalino com baixas rugosidades interfaciais e baixas resistências de contato de forma a assegurar o melhor desempenho possível dos dispositivos propostos. (AU)

Publicações acadêmicas

(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)

NAVIA, Alan Rodrigo. Estudo experimental da deposição autocatalítica de níquel sobre silício policristalino ou alumínio visando a fabricação de microeletrodos e portas MOS.. 2002. Dissertação de Mestrado - Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP/BC) São Paulo.