Desenvolvimento de fotomascaras usando gerador de padroes.

• Processo: 92/01557-0
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Mestrado
• Data de Início da vigência: 01 de janeiro de 1993
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 1994
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Telecomunicações
• Pesquisador responsável: Megumi Saito
• Beneficiário: Jorge Seki
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil

Resumo

O objetivo do projeto e a geração de fotomáscaras de cromo por meio de gerador (óptico) de padrões para uso em circuitos integrados, de Si e GaAs bem como circuitos híbridos, etc. O trabalho envolve o estudo, calibração e operação de um gerador de padrões controlado por computador que permite registrar opticamente sobre uma superfície fotosensível as informações geométricas (padrões) que descrevem o leiauto do CI. O projeto implica também em vivência das, etapas, fotolitográficas desde a fotomáscara até o processo de fotogravação na lâmina. (AU)

Publicações acadêmicas

(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)

SEKI, Jorge. Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscara/retículos usando gerador de padrões.. 1996. Dissertação de Mestrado - Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP/BC) São Paulo.