Texto completo
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| Autor(es): |
Jorge Seki
Número total de Autores: 1
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| Tipo de documento: | Dissertação de Mestrado |
| Imprenta: | São Paulo. |
| Instituição: | Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP/BC) |
| Data de defesa: | 1996-02-27 |
| Membros da banca: |
Megumi Saito;
Luiz Carlos Kretly;
Luiz Carlos Molina Torres
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| Orientador: | Megumi Saito |
| Resumo | |
Este trabalho fundamenta-se no estudo do gerador de padrões óptico micropattern printer Research Devices Instruments (RDI) modelo imagem 100, instalado no Laboratório de Microeletrônica da EPUSP (LME-EPUSP), para o desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos de baixa complexidade com resoluções próximas a duas micra, melhorando muito o sistema fotolitográfico tradicionalmente utilizado no laboratório. Após a instalação do gerador de padrões e a inicialização dos trabalhos com o equipamento (projeto gepa - gerador de padrões), duas foram as dificuldades imediatas encontradas: os critérios de definição dos parâmetros de processo para o fotorresiste exposto no gerador de padrões e a definição dos parâmetros de exposição corretos com o equipamento, dentre as inúmeras possibilidades que o equipamento permitia. As dimensões de trabalho que se pretendiam com o equipamento tornavam o processo fotolitográfico crítico e fora dos padrões usuais do laboratório. Deparamos com uma falta, tanto do esclarecimento sobre algumas etapas do processo fotolitográfico, como também do conhecimento sobre o sistema óptico de exposição do equipamento. Devido a estas dificuldades básicas este trabalho foi proposto. (AU) | |
| Processo FAPESP: | 92/01557-0 - Desenvolvimento de fotomascaras usando gerador de padroes. |
| Beneficiário: | Jorge Seki |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Mestrado |