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Processamento e caracterizacao de filmes finos de ligas ternarias de cocrpt e cocrta.

Processo: 97/14534-2
Modalidade de apoio:Bolsas no Brasil - Mestrado
Data de Início da vigência: 01 de julho de 1998
Data de Término da vigência: 30 de junho de 2000
Área de conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Ivette Frida Cymbaum Oppenheim
Beneficiário:Jeroen Schoenmaker
Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Assunto(s):Pulverização catódica   Propriedades estruturais   Filmes finos   Propriedades magnéticas
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Cobalto Cromo | Filmes Finos | Gravacao Magnetica Digital | Propriedades Estruturais | Propriedades Magneticas | Sputtering

Resumo

O projeto aqui proposto visa estudar propriedades de filmes finos relevantes para aplicações como mídias de gravação magnética digital. Filmes finos de ligas temárias de Co1-x-yCrxXy (X = Pt ou Ta) serão fabricados usando-se a técnica de deposição por, Sputtering. Usaremos substratos amorfos (de SiO2 ou C) recobertos com um filme fino de Cr (subcamada) também depositado por sputtering. Em algumas amostras serão depositadas uma camada protetora de C sobre o filme magnético. Serão considerados filmes com anisotropia magnética longitudinal. A espessura e composição das camadas serão determinadas com Espectroscopia de Retro-espalhamento Rutherford (RBS), sua textura e coerência cristalina com Difração de Raios - X (XRD) e a morfologia de superfície com Microscopia de Força Atômica (AFM). A caracterização magnética será realizada com Magnetometria de Amostra Vibrante (VSM). Das curvas de histerese obteremos os Campos Coercivos (Hc) e as Magnetizações de Saturação (Ms) e Remanente (Mr). Analisando as curvas de remanência isotérmica (Ir) e dc (Id) determinaremos o parâmetro δM e a quadratura coerciva dos filmes (S*). Propomos aqui um estudo empírico onde correlacionaremos os parâmetros de processamento (temperatura do substrato, taxa de deposição, pressão e fluxo de Argônio) com as características estruturais (composição, espessura, textura e coerência cristalina) e magnéticas (Hc, Ms, Mr, δm e S*) dos filmes. Pretendemos investigar, em particular, a influência do Ta e da Pt no comportamento das ligas de Co1-x-yCrxXy. Compararemos o comportamento das ligas ternárias com o comportamento de ligas binárias de Co1-x-yCrx+y. (AU)

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Publicações acadêmicas
(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)
SCHOENMAKER, Jeroen. Processamento e caracterização de filmes finos de ligas ternárias de CoCrTa e CoCrPt. 2001. Dissertação de Mestrado - Universidade de São Paulo (USP). Instituto de Física (IF/SBI) São Paulo.