Implantação iônica por imersão em plasma aplicada no tratamento de filmes finos depositados por PECVD

• Processo: 99/12370-8
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Jovens Pesquisadores
• Data de Início da vigência: 01 de fevereiro de 2000
• Data de Término da vigência: 20 de agosto de 2003
• Área de conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Elidiane Cipriano Rangel da Cruz
• Beneficiário: Elidiane Cipriano Rangel da Cruz
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia (FEG). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Guaratinguetá. Guaratinguetá , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 99/05884-5 - Implantação iônica por imersão em plasma aplicada no tratamento de filmes finos depositados por PECVD, AP.JP
• Assunto(s): Filmes finos Polimerização Implantação iônica Tecnologia de plasma Modificação de superfícies Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes Finos | Implantacao Ionica Por Imersao | Modificacao De Superficiais | Pecvd | Polimerizacao A Plasma | Tratamento A Plasma

Resumo

Implantação Iônica por Imersão em Plasma será empregada para modificar as propriedades de filmes finos de polímero depositados por PECVD. Filmes orgânicos, com diferentes estruturas e composições químicas serão depositados em plasmuência (13,56 MHz) no mesmo sistema utilizado para as deposições, variando-se o potencial aplicado na amostra, a fluência de implantação e a espécie utilizada como íon. Os efeitos dos parâmetros utilizados no processo de implantação nas propriedades estruturais, elétricas, ópticas e mecânicas dos filmes serão investigados. (AU)