Texto completo
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| Autor(es): |
Elso Luiz Rigon
Número total de Autores: 1
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| Tipo de documento: | Dissertação de Mestrado |
| Imprenta: | Campinas, SP. |
| Instituição: | Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Instituto de Física Gleb Wataghin |
| Data de defesa: | 2003-10-03 |
| Membros da banca: |
Lucila Helena Deliesposte Cescato;
Leandro Russovski Tessler;
Jacobus Willibrordus Swart
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| Orientador: | Lucila Helena Deliesposte Cescato |
| Resumo | |
Nesta tese foram desenvolvidos processos para gravação de nanoestruturas bidimensionais em relevo, utilizando-se exposições holográficas e litografia. São descritas as condições experimentais para a gravação de máscaras em fotorresina com diferentes perfis, assim como para a litografia do padrão bidimensional em três diferentes materiais: alumínio, níquel e carbono amorfo hidrogenado. Para a litografia foram utilizadas técnicas de lift off, evaporação térmica, eletrodeposição seletiva, deposição química na fase vapor assistida por plasma (PECVD), e corrosão por plasma reativo (RIE). Foram estudadas três propriedades ópticas apresentadas pelas nanoestruturas bidimensionais fabricadas em materiais dielétricos e metálicos: efeito anti-refletor, existência de bandas proibidas de propagação para fótons, e efeito de transmitância extraordinária. Além do estudo teórico, foram realizadas medidas experimentais do efeito anti-refletor em estruturas gravadas em fotorresina sobre vidro, e da transmitância extraordinária de nanofuros em filmes metálicos (AU) | |
| Processo FAPESP: | 00/05905-1 - Gravação holográfica de estruturas bi e tridimensionais e estudo de suas propriedades ópticas |
| Beneficiário: | Elso Luiz Rigon |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Mestrado |