Fabricação de elementos ópticos difrativos empregando processos de microusinagem.

Autor(es)

Giuseppe Antonio Cirino

• Tipo de documento: Tese de Doutorado
• Imprenta: São Paulo.
• Instituição: Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP/BC)
• Data de defesa: 2002-05-24

Membros da banca

Patrick Bernard Verdonck; Lucila Helena Deliesposte Cescato; Ronaldo Domingues Mansano; Mikiya Muramatsu; Jose Augusto de Alencar Mendes Pereira

• Orientador: Patrick Bernard Verdonck; Luiz Goncalves Neto

Resumo

Neste trabalho foram fabricados vários tipos de elementos ópticos difrativos (EODs) a partir de etapas de processos de fabricação de microssistemas, tais como fotolitografia e corrosão por plasma. Para tanto, foram desenvolvidas etapas de processos de fabricação, e foi investigado o emprego de novos materiais, tal como filme fino de carbono amorfo hidrogenado (a:C-H). Dentre os dispositivos fabricados, estão EODs com modulação de fase, de amplitude e de ambos (modulação complexa), operando por transmissão ou por reflexão. Materiais como o silício monocristalino, o dióxido de silício (silica fundida), filme fino a:C-H, polímeros tipo Novolak e polimetilmetacriato (PMMA) foram empregados. A fabricação do EOD com modulação complexa mostrou o sucesso do projeto e implementação de um EOD ainda não reportado na literatura. Este elemento emprega filme a:C-H para modulação da fase e um filme refletivo de alumínio para a modulação da amplitude de uma frente de onda, incidente no dispositivo. Com esta abordagem pode-se obter imagens mais ricas em detalhes, com elevada eficiência e baixo nível de ruído. (AU)

• Processo FAPESP: 98/02755-7 - Processos de corrosão por plasma para a fabricação de microelementos ópticos difrativos
• Beneficiário: Giuseppe Antonio Cirino
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado