CV Lattes
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Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Sorocaba. Instituto de Ciência e Tecnologia (Instituição Sede da última proposta de pesquisa) País de origem: Inglaterra
Professor Associado (aposentado) no Laboratório de Plasmas Tecnológicos da UNESP do Sorocaba, SP. (Livre Docente em Ciência e Tecnologia de Filmes Finos pela UNESP, 2010).Tem experiência profissional ampla em várias áreas de física e química analítica.Linhas de pesquisa: Física de sólidos com ênfase em Superfícies e Interfaces; Películas e Filamentos. Áreas específicas: Filmes finos, Deposição a Vapor Químico Assistido por Plasma, Análise de materiais empregando IRS, XPS, UVS e similares. É graduado em Física pela Universidade de Birmingham, Inglaterra (1981), mestre em Física Médica pela Universidade de Surrey (1986) e doutor em Espectrometria de massas pela Universidade de Surrey (1989). Fez vários estágio de pós-doutorado, incluindo na Universidade de Massachusetts, MA, EUA, e no Laboratório de Processos de Plasma do IFGW, da UNICAMP, Campinas, SP.ResearcherID: C-1048-2012Orcid: 0000-0002-4511-3768 (Fonte: Currículo Lattes)
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Camadas protetoras, hidrofóbicas, auto-limpantes e transparentes podem ser aplicadas em vidro usado em janelas. Assim, o vidro tratado é protegido, e sujeira na forma de particulados ou outros detritos tende a ser levado embora, por exemplo, por gotas de água de chuva, que correm na superfície vertical sob a ação de gravidade. Para tais funções a camada protetora deve ter boa aderência, r…
A deposição de filmes finos amorfos clorados e a cloração de superfícies a plasma têm diversas aplicações, entre outras, em biomateriais, na modificação de tecidos, e na produção de filmes de silício hidrogenado com excelentes características elétricas. A presente proposta visa primeira a produção de superfícies cloradas a plasma e o estudo da estrutura química e a estequiometria destas s…
Serão produzidos por Deposição a Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) e Deposição e Implantação Iônica por Imersão em Plasma (PIIID) filmes finos de carbono amorfo hidrogenado, halogenado, a-C:H:X, onde X é um halogênio, e similares como a-C:H:Si:X. A estrutura e composição química destes filmes serão caracterizadas por Espectroscopia de Foto-elétrons de Raios-X (XPS) e Espectroscop…
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