Resumo
O presente trabalho pretende estudar e otimizar o processo liberação dos RF MEMS fabricados com tecnologia CMOS comercial em desenvolvimento no LME. Pretende-se estudar os mecanismos de corrosão por RIE e otimizar este processo. A corrosão por HF vapor também será estudada visando a melhorar a reprodutibilidade da corrosão e eliminar os resíduos que aparecem após este processo. Um process…