Resumo
A presente invenção está relacionada com o desenvolvimento de novo processo de preparação de vidros de SiO2:GeO2 (sílica - germânia) pela técnica de deposição axial em fase vapor (VAD), para intensificar a resposta não-linear do material. O processo é baseado no controle dos centros de defeitos que são associados às propriedades eletro-ópticas, tais como a fotosensitividade e a geração do…