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Desenvolvimento de geradores pulsadores de alta tensão empregando linhas coaxiais

Processo: 00/11114-7
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Regular
Data de Início da vigência: 01 de maio de 2001
Data de Término da vigência: 29 de fevereiro de 2004
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Circuitos Elétricos, Magnéticos e Eletrônicos
Pesquisador responsável:José Osvaldo Rossi
Beneficiário:José Osvaldo Rossi
Instituição Sede: Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
Bolsa(s) vinculada(s):01/14545-1 - Desenvolvimento de geradores pulsados de alta tensão empregando linhas coaxiais, BP.TT
Assunto(s):Linhas de transmissão de energia elétrica  Alta tensão  Tratamento de superfícies  Plasma (microeletrônica) 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Alta Tensao | Geradores Blumlein | Implantacao Ionica | Plasma | Pulsadores

Resumo

O trabalho de pesquisa concentra-se no projeto e construção de um gerador pulsado, conhecido como Gerador Blumlein, capaz de produzir pulsos de 150 kV/300A e com duração de 1µs. A principal característica deste dispositivo consiste no seu baixo custo de construção devido ao emprego de cabos coaxiais em sua estrutura, dispensando o uso do transformador de pulso magnético convencional, de mais alto custo e de difícil execução por causa da alta voltagem de isolação. Além do mais, empregando esta nova tecnologia podem-se gerar pulsos com tempos de subida mais rápido (<100 ns) do que com o uso de pulsadores convencionais com redes formadoras de pulso e transformadores. Outros aspectos inéditos decorrentes desta tecnologia são: prospecto de operação dos pulsadores na faixa de 1µs (desde que normalmente são usados na faixa de ns na geração de raios X) e a sua aplicação, pela primeira vez, nos processos de implantação iônica, o que pode se revelar de suma importância para o tratamento de superfícies de materiais usados na indústria aeroespacial. Finalmente, é importante ressaltar o aspecto inovador desta pesquisa em termos nacionais, visto que esta tecnologia não é difundida no país. (AU)

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Publicações científicas
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
TAN‚ I.H.; UEDA‚ M.; DALLAQUA‚ R.S.; ROSSI‚ J.O.. Magnetic suppression of secondary electrons in plasma immersion ion implantation. Applied Physics Letters, v. 86, n. 2, p. 023509-023509, . (00/11114-7, 01/12746-0)