PREPARAÇÃO E CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE CaCu3Ti4O12 À ALTA PRESSÃO EM SUBSTRATO DE SILÍCIO COM DIFERENTES ELETRODOS

Resumo

Pretende-se neste trabalho produzir filmes finos através de uma nova técnica de impregnação forçada de óxidos utilizando pressão elevada. Através de forno na forma de protótipo industrial, serão obtidos filmes finos de titanato de cálcio e cobre (CCTO) em substrato de silício com diferentes eletrodos, como platina e óxidos metálicos condutores (LaNiO3, La0,5Sr0,5CoO3 e RuO2). A síntese dos filmes finos será realizada a temperaturas relativamente baixas (250 °C a 600 °C), por um período superior a 10 horas usando elevadas pressões finais. A cristalinidade, pureza e composição dos filmes resultantes serão determinadas pelas técnicas de difração de raios X (DRX), fluorescência de raios X e espectroscopia de fotoelétrons excitados por raios X (XPS). A morfologia será analisada pelas microscopias eletrônicas de varredura (MEV) e de transmissão (MET), e pela microscopia de força atômica (MFA). Pela técnica de alta resolução da MET será determinado o estado de interface filme-eletrodo. As propriedades elétricas e dielétricas dos filmes serão estudas utilizando-se medidas de corrente (I) versus tensão (V) para averiguar se o filme obtido apresenta uma resposta linear ou não linear, e pela técnica de espectroscopia de impedância que permite determinar a dependência entre a resposta do sistema e a freqüência aplicada ao mesmo. A propriedade de fotoluminescência dos filmes será investigada pelo espectro de fotoluminescência obtido pelo monocromador Thermal Jarrel-Ash Monospec 27 usando um fotomultiplicador Hamamatsu R446. A influência da pressão na ordem-desordem do filme será determinada pela comparação com filmes obtidos pelas técnicas convencionais, como por exemplo, a técnica spin coating.