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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Chemical Vapor Deposition of Monolayer Rhenium Disulfide (ReS2)

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Autor(es):
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Keyshar, Kunttal [1] ; Gong, Yongji [2] ; Ye, Gonglan [1] ; Brunetto, Gustavo [3] ; Zhou, Wu [4] ; Cole, Daniel P. [5] ; Hackenberg, Ken [1] ; He, Yongmin [1] ; Machado, Leonardo [3] ; Kabbani, Mohamad [1] ; Hart, Amelia H. C. [1] ; Li, Bo [1] ; Galvao, Douglas S. [3] ; George, Antony [1] ; Vajtai, Robert [1] ; Tiwary, Chandra Sekhar [1] ; Ajayan, Pulickel M. [1]
Número total de Autores: 17
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Rice Univ, Dept Mat Sci & NanoEngn, Houston, TX 77005 - USA
[2] Rice Univ, Dept Chem, Houston, TX 77005 - USA
[3] State Univ Campinas UNICAMP, IFGW DFA, Dept Appl Phys, BR-13083859 Campinas, SP - Brazil
[4] Oak Ridge Natl Lab, Mat Sci & Technol Div, Oak Ridge, TN 37831 - USA
[5] US Army Res Lab, Vehicle Technol Directorate, Aberdeen Proving Ground, MD 21005 - USA
Número total de Afiliações: 5
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Advanced Materials; v. 27, n. 31, p. 4640-4648, AUG 19 2015.
Citações Web of Science: 108
Resumo

Processo FAPESP: 13/08293-7 - CECC - Centro de Engenharia e Ciências Computacionais
Beneficiário:Munir Salomao Skaf
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Centros de Pesquisa, Inovação e Difusão - CEPIDs