Self-catalyzed carbon plasma-assisted growth of tin-doped indium oxide nanostructuresby the sputtering method

Autor(es)

Setti, Grazielle O. ; de Jesus, Dosil P. ; Joanni, Ednan

• Tipo de documento: Artigo Científico
• Fonte: MATERIALS RESEARCH EXPRESS; v. 3, n. 10 OCT 2016.
• Citações Web of Science: 2

Resumo

In this work a new strategy for growth of nanostructured indium tin oxide (ITO) by RF sputtering is presented. ITO is deposited in the presence of a carbon plasma which reacts with the free oxygen atoms during the deposition, forming species likeCO(x). These species are removed from the chamber by the pumping system, and one-dimensional ITO nanostructures are formed without the need for a seed layer. Different values of substrate temperature and power applied to the gun containing the carbon target were investigated, resulting in different nanostructure morphologies. The samples containing a higher density of nanowires were covered with gold and evaluated as surface-enhanced Raman scattering substrates for detection of dye solutions. The concept might be applied to other oxides, providing a simple method for unidimensional nanostructural synthesis. (AU)

• Processo FAPESP: 13/22485-6 - Desenvolvimento e aplicação de eletroextração em membrana em métodos eletroforéticos de análises
• Beneficiário: Dosil Pereira de Jesus
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Processo FAPESP: 08/57805-2 - Instituto de Bioanalítica
• Beneficiário: Lauro Tatsuo Kubota
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Temático
• Processo FAPESP: 13/25108-9 - Fabricação de substratos nanoestruturados para aplicação em intensificação do Espalhamento Raman por superfície
• Beneficiário: Grazielle de Oliveira Setti Gibin
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Processo FAPESP: 13/22127-2 - Desenvolvimento de novos materiais estratégicos para dispositivos analíticos integrados
• Beneficiário: Lauro Tatsuo Kubota
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Temático