| Texto completo | |
| Autor(es): |
Luiz, Gustavo O.
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Benevides, Rodrigo S.
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Santos, Felipe G. S.
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Espinel, Yovanny A. V.
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Mayer Alegre, Thiago P.
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Wiederhecker, Gustavo S.
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Número total de Autores: 6
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| Afiliação do(s) autor(es): | [1] Univ Estadual Campinas, UNICAMP, Appl Phys Dept, Gleb Wataghin Phys Inst, BR-13083859 Campinas, SP - Brazil
Número total de Afiliações: 1
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| Tipo de documento: | Artigo Científico |
| Fonte: | Optics Express; v. 25, n. 25, p. 31347-31361, DEC 11 2017. |
| Citações Web of Science: | 4 |
| Resumo | |
Elastic dissipation through radiation towards the substrate is a major loss channel in micro-and nanomechanical resonators. Engineering the coupling of these resonators with optical cavities further complicates and constrains the design of low-loss optomechanical devices. In this work we rely on the coherent cancellation of mechanical radiation to demonstrate material and surface absorption limited silicon near-field optomechanical resonators oscillating at tens of MHz. The effectiveness of our dissipation suppression scheme is investigated at room and cryogenic temperatures. While at room temperature we can reach a maximum quality factor of 7.61k (fQ-product of the order of 10(11) Hz), at 22 K the quality factor increases to 37k, resulting in a fQ-product of 2 x 10(12) Hz. (C) 2017 Optical Society of America under the terms of the OSA Open Access Publishing Agreement (AU) | |
| Processo FAPESP: | 12/17765-7 - Nanofotônica em semicondutores do Grupo IV e III-V |
| Beneficiário: | Gustavo Silva Wiederhecker |
| Linha de fomento: | Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores |
| Processo FAPESP: | 08/57857-2 - Fotônica para comunicações ópticas |
| Beneficiário: | Hugo Luis Fragnito |
| Linha de fomento: | Auxílio à Pesquisa - Temático |
| Processo FAPESP: | 12/17610-3 - Optomecânica em cristais fotônicos e fonônicos |
| Beneficiário: | Thiago Pedro Mayer Alegre |
| Linha de fomento: | Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores |