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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Surface structure characterization by X-ray photoelectron diffraction of Sn ultra-thin films deposited on Pd(111)

Texto completo
Autor(es):
Pancotti, A. [1] ; de Siervo, A. [2] ; Carazzolle, M. F. [3] ; Silva, J. J. [1] ; Nascente, P. A. P. [4] ; Landers, R. [2]
Número total de Autores: 6
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Univ Fed Jatai, Unidade Acad Especial Ciencias Exatas & Tecnol, Curso Fis, BR-75801615 Jatai, Go - Brazil
[2] Univ Estadual Campinas, Inst Fis Gleb Wataghin, Dept Fis Aplicada, BR-13083970 Campinas, SP - Brazil
[3] Univ Estadual Campinas, Inst Biol, Dept Genet Evolucao Microbiol & Imunol, BR-13083859 Campinas, SP - Brazil
[4] Univ Fed Sao Carlos, Dept Engn Mat, BR-13565905 Sao Carlos, SP - Brazil
Número total de Afiliações: 4
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Surface Science; v. 685, p. 7-12, JUL 2019.
Citações Web of Science: 2
Resumo

The formation of surface alloys obtained by annealing ultra-thin films of Sn deposited on a Pd(111) surface was characterized by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), low-energy electron diffraction (LEED), and X-ray photoelectron diffraction (XPD). Annealing the surface at 600 K produced a (root 3x root 3)R30 degrees LEED pattern, and the comparison between experimental and theoretical XPD results indicated the formation of a corrugated bi-dimensional Pd2Sn surface alloy, with Sn atoms being present not only on the outmost layer but also at least on the second internal layer. (AU)

Processo FAPESP: 17/25983-8 - Revestimentos de Titânio, Nióbio e suas Ligas sobre Aço Inoxidável AISI 316L e Titânio
Beneficiário:Pedro Augusto de Paula Nascente
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular