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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Influence of thermal annealing on the properties of evaporated Er-doped SnO2

Texto completo
Autor(es):
Machado, Diego H. O. [1] ; da Silva, Jose H. D. [1] ; Tabata, Americo [1] ; Scalvi, Luis V. A. [1]
Número total de Autores: 4
Afiliação do(s) autor(es):
[1] Sao Paulo State Univ, Dept Phys, UNESP, FC & Grad Program Mat Sci & Technol POSMAT, Bauru, SP - Brazil
Número total de Afiliações: 1
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Materials Research Bulletin; v. 120, DEC 2019.
Citações Web of Science: 0
Resumo

Er-doped tin dioxide thin films, deposited on glass substrates by a combination of sol-gel and resistive evaporation techniques, are investigated. The sol-gel route is used for powder preparation, which serves as material source for resistively evaporated thin films. The annealing temperature influences the Er3+ location, that reflects on the photoluminescence (PL) related to H-2(11/2) -> I-4(15/2) and S-4(3/2 )-> I-4(15/2) and S-4(3/2) -> (I15/2Er3+)-I-4 transitions. The lower annealing temperature, 300 degrees C, leads to PL emission, which vanishes for higher annealing temperatures. Annealing temperature above 300 degrees C enlarges the crystallites and allows diffusion of Er ions into the sample, increasing the population of substituted Sn sites. Then, the population of grain boundary located luminescent sites is decreased, leading to higher conductivity concomitant with absence of PL signal. Evaporated SnO2 films have the advantage of a stable electrical signal and the deposition on hydrophobic surfaces. Emission of evaporated SnO2 on GaAs substrates is also shown, yielding the substrate influence. (AU)

Processo FAPESP: 16/12216-6 - Heterojunções de SnO2 para aplicações em dispositivos optoeletrônicos: 1) GaAs/SnO2, 2) grafeno/SnO2
Beneficiário:Diego Henrique de Oliveira Machado
Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
Processo FAPESP: 17/18916-2 - Otimização do Crescimento de Filmes de Co3O4 para Aplicações Fotovoltaicas e Fotocatalíticas
Beneficiário:Jose Humberto Dias da Silva
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular