| Texto completo | |
| Autor(es): |
Mazzi, Felipe Boechat
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Silva Barbosa, Felippe Alexandre
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IEEE
Número total de Autores: 3
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| Tipo de documento: | Artigo Científico |
| Fonte: | 2023 INTERNATIONAL CONFERENCE ON OPTICAL MEMS AND NANOPHOTONICS, OMN AND SBFOTON INTERNATIONAL OPTICS AND PHOTONICS CONFERENCE, SBFOTON IOPC; v. N/A, p. 2-pg., 2023-01-01. |
| Resumo | |
Thin-film lithium niobate (TFLN) is a promising candidate for photonic-based quantum information technology. This platform combines large nonlinear and electro-optical coefficients with the tight confinement and reduced footprint characteristic of integrated devices. Nonetheless, current high-performance devices in TFLN generally rely on the use of hydrogen-silsesquioxane (HSQ) resist, or on silicon dioxide hard-masks, adding complexity to the fabrication process. Here, we fabricate and characterize optical resonators in TFLN using readily available organic deep UV resist. This process constitutes an alternative for more accessible microfabrication of TFLN photonic devices. (AU) | |
| Processo FAPESP: | 18/03474-7 - Estados não-clássicos da luz em chips |
| Beneficiário: | Felippe Alexandre Silva Barbosa |
| Modalidade de apoio: | Auxílio à Pesquisa - Jovens Pesquisadores |
| Processo FAPESP: | 21/12438-7 - Microfabricação e otimização de cavidades óticas integradas de niobato de lítio |
| Beneficiário: | Felipe Boechat Mazzi |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Mestrado |
| Processo FAPESP: | 18/25339-4 - Dispositivos fotônicos integrados |
| Beneficiário: | Newton Cesario Frateschi |
| Modalidade de apoio: | Auxílio à Pesquisa - Temático |