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(Referência obtida automaticamente do Web of Science, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

A comprehensive nitriding study by low energy ion beam implantation on stainless steel

Texto completo
Autor(es):
Figueroa, C. A. ; Wisnivesky, Daniel [2] ; Hammer, P. ; Lacerda, R. G. ; Droppa, R. Jr ; Marques, F. C. ; Alvarez, F.
Número total de Autores: 7
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY; v. 146-147, p. 405-409, Sept.-Oct. 2001.
Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
Assunto(s):Resistência dos materiais   Tratamento térmico   Plasma (estados da matéria)
Resumo

In this paper we report nitriding studies of stainless steel 316 using a broad ion beam source. Experiments performed by changing the ion energy (0.2-1.5 KeV), ion current density (1.4-5.7 mA/cm2) and implantation times (1 and 8 h) at a temperature around 380°C are reported. The microstructure and morphology are studied by glancing angle X-ray diffraction and scanning electron microscopy. For constant ion energy, higher nitrogen ion flux increases the hardness. At higher ion energies the sputtering process prevents the formation of a thick-nitrated layer, even for longer implantation times. The results are examined in the light of recent studies on physical models for ion implantation. (AU)

Processo FAPESP: 97/12069-0 - Propriedades estruturais, ópticas e de transporte em semicondutores amorfos
Beneficiário:Fernando Alvarez
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Temático