| Texto completo | |
| Autor(es): |
Pellegrini, Paloma E. S.
;
Leitao, Luana de Moraes
;
Poma, Freddy Jara
;
Cioldin, Frederico H.
;
Nista, Silvia V. G.
;
Moshkalev, Stanislav
;
Hernandez-Figueroa, Hugo E.
Número total de Autores: 7
|
| Tipo de documento: | Artigo Científico |
| Fonte: | 2024 SBFOTON INTERNATIONAL OPTICS AND PHOTONICS CONFERENCE, SBFOTON IOPC 2024; v. N/A, p. 3-pg., 2024-01-01. |
| Resumo | |
This study develops a novel multi-step sputtering process to fabricate 150 nm thick TiO2 films in the pure anatase phase, overcoming challenges related to uncontrolled phase transitions during prolonged plasma exposure. By introducing a three-stage deposition approach with intervals, we achieve consistent phase purity and reproducibility. Raman spectroscopy and optical ellipsometry confirm the effectiveness of this method. The multi-step sputtering process is applied to the fabrication of TiO2 waveguides by thermal scanning probe lithography. (AU) | |
| Processo FAPESP: | 22/11596-0 - EMU científico: aquisição de equipamentos de transmissão e caracterização para enlaces de dados em altíssima velocidade |
| Beneficiário: | Darli Augusto de Arruda Mello |
| Modalidade de apoio: | Auxílio à Pesquisa - Programa Infraestrutura - Científico |
| Processo FAPESP: | 21/11380-5 - CPTEn - Centro Paulista de Estudos da Transição Energética |
| Beneficiário: | Luiz Carlos Pereira da Silva |
| Modalidade de apoio: | Auxílio à Pesquisa - Centros de Ciência para o Desenvolvimento |
| Processo FAPESP: | 21/00199-8 - Redes e serviços inteligentes rumo 2030 (SMARTNESS) |
| Beneficiário: | Christian Rodolfo Esteve Rothenberg |
| Modalidade de apoio: | Auxílio à Pesquisa - Programa Centros de Pesquisa Aplicada |