Thermal expansion of the Ti5 Si3 and Ti6 Si2 B phases investigated by high-temperature X-ray diffraction

Rodrigues‚ G.; Nunes‚ C.A.; Suzuki‚ P.A.; Coelho‚ G.C.

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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Thermal expansion of the Ti₅ Si₃ and Ti₆ Si₂ B phases investigated by high-temperature X-ray diffraction

Texto completo
Autor(es):	Rodrigues‚ G. ; Nunes‚ C.A. ; Suzuki‚ P.A. ; Coelho‚ G.C. Número total de Autores: 4
Tipo de documento:	Artigo Científico
Fonte:	INTERMETALLICS; v. 14, n. 3, p. 236-240, 2006.

Processo FAPESP:	01/09529-7 - Utilização de técnica de solidificação rápida para estudos de estabilidade de fases em ligas do sistema Ti-B-Si
Beneficiário:	Carlos Angelo Nunes
Modalidade de apoio:	Auxílio à Pesquisa - Regular

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