Amorphous HfO_ {2} and Hf_ {1- x} Si_ {x} O via a melt-and-quench scheme using ab initio molecular dynamics

Scopel‚ W.L.; da Silva‚ A.J.R.; Fazzio‚ A.

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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Amorphous HfO_ {2} and Hf_ {1- x} Si_ {x} O via a melt-and-quench scheme using ab initio molecular dynamics

Texto completo
Autor(es):	Scopel‚ W.L. ; da Silva‚ A.J.R. ; Fazzio‚ A. Número total de Autores: 3
Tipo de documento:	Artigo Científico
Fonte:	Physical Review B; v. 77, n. 17, p. 172101, 2008.

Processo FAPESP:	05/59581-6 - Simulação e modelagem de nanoestruturas e materiais complexos
Beneficiário:	Adalberto Fazzio
Modalidade de apoio:	Auxílio à Pesquisa - Temático


Processo FAPESP:	05/54190-9 - Estudo teórico da evolução dinâmica de nanofios de ouro puros e com impurezas
Beneficiário:	Edwin Hobi Junior
Modalidade de apoio:	Bolsas no Brasil - Doutorado Direto

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