Thermal expansion of the W5 Si3 and T2 phases of the W-Si-B system investigated by high-temperature X-ray diffraction

Rodrigues‚ G.; Chad‚ V.M.; Nunes‚ C.A.; Suzuki‚ P.A.; Coelho‚ G.C.

Busca avançada

Pesquisar - Utilize aspas para obter um resultado mais específico

Índice

Área do conhecimento

Ano de início

Entree

(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Thermal expansion of the W₅ Si₃ and T₂ phases of the W-Si-B system investigated by high-temperature X-ray diffraction

Texto completo
Autor(es):	Rodrigues‚ G. ; Chad‚ V.M. ; Nunes‚ C.A. ; Suzuki‚ P.A. ; Coelho‚ G.C. Número total de Autores: 5
Tipo de documento:	Artigo Científico
Fonte:	INTERMETALLICS; v. 15, n. 3, p. 241-244, 2007.

Processo FAPESP:	97/06348-4 - Estudo de estabilidade de fases em ligas Nb-B-Si ricas em Nb
Beneficiário:	Carlos Angelo Nunes
Modalidade de apoio:	Auxílio à Pesquisa - Jovens Pesquisadores

URL curto