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(Referência obtida automaticamente do Google Scholar, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores.)

Magnetic suppression of secondary electrons in plasma immersion ion implantation

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Autor(es):
Tan‚ I.H. ; Ueda‚ M. ; Dallaqua‚ R.S. ; Rossi‚ J.O.
Número total de Autores: 4
Tipo de documento: Artigo Científico
Fonte: Applied Physics Letters; v. 86, n. 2, p. 023509-023509, 2005.
Processo FAPESP: 00/11114-7 - Desenvolvimento de geradores pulsadores de alta tensão empregando linhas coaxiais
Beneficiário:José Osvaldo Rossi
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
Processo FAPESP: 01/12746-0 - Implantação iônica por imersão em plasma aplicada a materiais metálicos semicondutores e dielétricos (tratamentos Multiplex)
Beneficiário:Mario Ueda
Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular