Caracterização estrutural por difração de raios X de alta resolução de SiAlONs sinterizados com diferentes aditivos

Autor(es)

C. Santos ^[1] ; P. A. Suzuki ^[2] ; K. Strecker ^[3] ; S. Kycia ; C. R. M. Silva ^[5]

Afiliação do(s) autor(es)

^[1] FAENQUIL. DEMAR - Brasil

^[2] FAENQUIL. DEMAR - Brasil

^[3] FAENQUIL. DEMAR - Brasil

^[5] IAE/AMR. CTA - Brasil

• Tipo de documento: Artigo Científico
• Fonte: Cerâmica; v. 51, n. 320, p. 313-317, 2005-12-00.

Resumo

A técnica de difração de raios X de alta resolução foi utilizada para a caracterização estrutural da solução sólida, formada a partir de nitreto de silício (Si3N4), denominada alfa-SiAlON. Cerâmicas de alfa-SiAlON foram produzidas utilizando aditivos à base de AlN-Y2O3 ou AlN-CRE2O3. O óxido misto, CRE2O3, é uma solução sólida formada por Y2O3 e óxidos de terras raras. Os resultados mostraram a formação de solução sólida nos materiais sinterizados e não foi detectada segregação de óxidos utilizados como aditivos de sinterização. A similaridade das propriedades estruturais, morfológicas e mecânicas entre SiAlONs produzidos com aditivos contendo Y2O3 ou CRE2O3 indica a possibilidade de substituição do Y2O3 por CRE2O3 na produção de alfa-SiAlONs por um custo mais baixo. (AU)

• Processo FAPESP: 01/08682-6 - Estudo dos mecanismos de fluência do Si3N4 prensado a quente, aditivado com CTR2O3/AIN e CTR2O3/AI2O3
• Beneficiário: Claudinei dos Santos
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado