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Arquitetura de superficies em filmes finos.

Processo: 02/12002-3
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Regular
Data de Início da vigência: 01 de março de 2003
Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 2005
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Annette Gorenstein
Beneficiário:Annette Gorenstein
Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Filmes finos  Microscopia de força atômica  Litografia  Leis de escala 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Afm | Filmes Finos | Intercalacao | Leis De Escala | Litografia

Resumo

O presente projeto propõe o desenvolvimento e estudo de metodologia para controle da morfologia de superfícies em filmes finos. É objetivo do projeto a deposição de filmes finos pela técnica de sputtering em incidência oblíqua, o estudo da dinâmica de crescimento através de leis de escala. É também objetivo deste projeto a formação de padrões intencionais em filmes finos, particularmente arquiteturas apresentado túneis. Em ambos os casos, serão estudadas as implicações destas modificações no comportamento do material ativo frente à intercalação. (AU)

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