Projeto, montagem e entrada em operacao de um equipamento mocvd para obtencao de revestimentos micro/nanoestruturados.

• Processo: 05/55861-4
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de agosto de 2006
• Data de Término da vigência: 30 de setembro de 2008
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
• Pesquisador responsável: Marina Fuser Pillis
• Beneficiário: Marina Fuser Pillis
• Instituição Sede: Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares (IPEN). Secretaria de Desenvolvimento Econômico (São Paulo - Estado). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Filmes finos Materiais nanoestruturados
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes Finos | Mocvd | Nanoestrutura

Resumo

Este trabalho consiste no projeto, montagem e entrada em operação de um equipamento MOCVD visando a obtenção de filmes Finos micro/nanoestruturados. Após a conclusão do equipamento serão feitos testes sistemáticos variando-se os parâmetros de deposição de forma que conduzam à obtenção revestimentos sobre substratos mono e policristalinos. Os depósitos consistirão de filmes finos de TiO2, TiNO e Y2O3, e de multicamadas TiO2/TiNO. Os precursores organometálicos a serem utilizados serão o isopropóxido de titânio para obtenção de TiO2 e o tris-tetrametil heptanodionato de ítrio para obtenção de Y2O3. Para obtenção de Y2O3 será adicionado ao sistema oxigênio e para obtenção de TiNO será utilizado NH3. Nitrogênio será utilizado como gás vetor. Os testes serão efetuados na faixa de 500 a 700°C. A caracterização será feita por meio de técnicas de difração de raios-X, microscopia eletrônica de varredura acoplada a análises químicas de micro-regiões por energia dispersiva e microscopia eletrônica de transmissão. (AU)

Publicações científicas

(7)

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

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