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Projeto, montagem e entrada em operacao de um equipamento mocvd para obtencao de revestimentos micro/nanoestruturados.

Processo: 05/55861-4
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Regular
Data de Início da vigência: 01 de agosto de 2006
Data de Término da vigência: 30 de setembro de 2008
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
Pesquisador responsável:Marina Fuser Pillis
Beneficiário:Marina Fuser Pillis
Instituição Sede: Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares (IPEN). Secretaria de Desenvolvimento Econômico (São Paulo - Estado). São Paulo , SP, Brasil
Assunto(s):Filmes finos  Materiais nanoestruturados 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Filmes Finos | Mocvd | Nanoestrutura

Resumo

Este trabalho consiste no projeto, montagem e entrada em operação de um equipamento MOCVD visando a obtenção de filmes Finos micro/nanoestruturados. Após a conclusão do equipamento serão feitos testes sistemáticos variando-se os parâmetros de deposição de forma que conduzam à obtenção revestimentos sobre substratos mono e policristalinos. Os depósitos consistirão de filmes finos de TiO2, TiNO e Y2O3, e de multicamadas TiO2/TiNO. Os precursores organometálicos a serem utilizados serão o isopropóxido de titânio para obtenção de TiO2 e o tris-tetrametil heptanodionato de ítrio para obtenção de Y2O3. Para obtenção de Y2O3 será adicionado ao sistema oxigênio e para obtenção de TiNO será utilizado NH3. Nitrogênio será utilizado como gás vetor. Os testes serão efetuados na faixa de 500 a 700°C. A caracterização será feita por meio de técnicas de difração de raios-X, microscopia eletrônica de varredura acoplada a análises químicas de micro-regiões por energia dispersiva e microscopia eletrônica de transmissão. (AU)

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Publicações científicas (7)
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
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