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Desenvolvimento de um novo tipo de implantador iônico e sua aplicação em modificação de superfícies

Processo: 11/00624-9
Modalidade de apoio:Auxílio à Pesquisa - Regular
Data de Início da vigência: 01 de maio de 2011
Data de Término da vigência: 30 de abril de 2013
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori
Beneficiário:Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori
Instituição Sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Pesquisadores associados: Efim Mikhailovitch Oks ; Ian Gordon Brown ; Mauro Sergio Dorsa Cattani
Assunto(s):Superfície física  Íons  Cultura de células  Materiais cerâmicos  Bioengenharia 
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:cultura celular | Implantação Iônica | Modificação de superfície | Implantação iônica

Resumo

Este projeto de pesquisa está dividido em três partes, como será descrito a seguir. A primeira parte consiste no desenvolvimento e construção de um novo tipo de implantador de íons que, por si só, constitui uma contribuição tecnológica significativa. Esse dispositivo para fazer implantação iônica será de interesse para a comunidade que trabalha em fonte de íons e implantação iônica, em todo o mundo. A segunda parte do projeto se refere à utilização do novo implantador de íons para a modificação de superfícies cerâmicas com o objetivo de alterar a condutividade elétrica dessas superfícies. Para isso, implantação iônica de ouro será realizada e os resultados deverão ser comparados com um modelo teórico que desenvolvemos baseado em percolação de nanopartículas metálicas formadas em polímeros. O estudo de implantação iônica em cerâmica será de grande interesse para as áreas de materiais e de modificação da superfície, sendo que a aplicação para essas cerâmicas de superfície condutora inclui sua utilização em aceleradores de partículas e de isolamento para alta tensão. Finalmente, a terceira parte do projeto consiste em modificação de superfícies de substratos para cultura celular. Nesta parte do projeto serão exploradas morfologias periódicas em diversas escalas métricas e modificação de superfície por plasma e por implantação iônica (com o uso do novo implantador). Os materiais a serem modificados para posterior uso como substratos de culturas de células são os polímeros SU-8 (litografável) e PDMS (polydimethylsiloxane), diamondlike carbon (DLC) e diamante. Como finalização do trabalho, serão projetadas superfícies compondo morfologia e tratamento com plasma e/ou implantação iônica para a obtenção da situação ideal para a cultura celular e para a obtenção da situação mais adversa para a mesma cultura. Com essas informações será possível desenvolver superfícies modificadas onde a cultura de células ocorrerá em áreas seletivas. Duas possíveis aplicações podem ser citadas para superfícies com tais características: engenharia tecidual e biodispositivos. (AU)

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Publicações científicas
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
ARAUJO, W. W. R.; TEIXEIRA, F. S.; DA SILVA, G. N.; SALVADORI, D. M. F.; SALVADORI, M. C.; BROWN, I. G.. Cell growth on 3D microstructured surfaces. Materials Science & Engineering C-Materials for Biological Applications, v. 63, p. 686-689, . (11/00624-9)