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Otimização dos processos de preparação de semicondutores amorfos do tipo III-V

Resumo

O objetivo deste projeto é a otimização dos processos de preparação de filmes de semicondutores amorfos de compostos do tipo III-V. Para isto construiremos um sistema de deposição por sputtering RF e aperfeiçoaremos o funcionamento de uma evaporadora ‘flash’, possibilitando a preparação amostras de GaAs e o GaSb, hidrogenados e não hidrogenados. A qualidade dos filmes será avaliada em medidas de fotoluminescência, espectroscopia Raman e fotocondutividade. Caracterizações básicas, como borda de absorção, condutividade no escuro e espectroscopia de absorção no infravermelho também serão necessárias, permitindo melhor entendimento do papel dos principais defeitos no material (centros C3) e como estes evoluem para diferentes condições de preparação. (AU)

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