Implantação iônica por imersão em plasma aplicada no tratamento de filmes finos depositados por PECVD

• Processo: 99/05884-5
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Jovens Pesquisadores
• Data de Início da vigência: 01 de fevereiro de 2000
• Data de Término da vigência: 31 de agosto de 2004
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Elidiane Cipriano Rangel da Cruz
• Beneficiário: Elidiane Cipriano Rangel da Cruz
• Instituição Sede: Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus Experimental de Sorocaba. Sorocaba , SP, Brasil
• Bolsa(s) vinculada(s): 01/02868-0 - Implantação iônica por imersão em plasma aplicada ao tratamento de polímeros, BP.IC; 99/12370-8 - Implantação iônica por imersão em plasma aplicada no tratamento de filmes finos depositados por PECVD, BP.JP
• Assunto(s): Filmes finos Polimerização Implantação iônica Modificação de superfícies Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes Finos De Polimero | Implantacao Ionica Por Imersao | Modificacao De Superficies | Pecvd | Polimerizacao A Plasma | Tratamento A Plasma
• Publicação FAPESP: https://media.fapesp.br/bv/uploads/pdfs/Investindo...pesquisadores_250_193_193.pdf

Resumo

Implantação iônica por imersão em plasma será empregada para modificar as propriedades de filmes finos de polímero depositados por PECVD. Filmes orgânicos com diferentes estruturas e composições químicas serão depositados em plasmas de acetileno, benzeno e hexametildisiloxano. As implantações serão efetuadas em plasmas de radiofrequência (13,56 MHz) no mesmo sistema utilizado para as deposições, variando-se o potencial aplicado na amostra, a fluência de implantação e a espécie utilizada como íon. Os efeitos dos parâmetros utilizados no processo de implantação nas propriedades estruturais, elétricas, ópticas e mecânicas dos filmes serão investigados. (AU)