Silicon nitride etching in high - and low - density plasmas using sf6/02/n2 mixtures

• Processo: 03/02530-5
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Publicações científicas - Artigo
• Data de Início da vigência: 01 de novembro de 2003
• Data de Término da vigência: 31 de janeiro de 2004
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Jacobus Willibrordus Swart
• Beneficiário: Jacobus Willibrordus Swart
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação (FEEC). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Corrosão Seletividade Nitreto de silício Silício Plasma (estados da matéria) Publicações de divulgação científica Artigo científico
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Corrosao | Nitreto De Silicio | Oxido De Silicio | Plasma | Seletividade | Silicio