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Ednan Joanni | Instituto de Engenharia de Sistemas e Computadores do Porto - Portugal

Processo: 05/54753-3
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Pesquisador Visitante - Internacional
Vigência: 01 de setembro de 2005 - 31 de agosto de 2006
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
Pesquisador responsável:Elson Longo da Silva
Beneficiário:Elson Longo da Silva
Pesquisador visitante: Ednan Joanni
Inst. do pesquisador visitante: Instituto de Engenharia de Sistemas e Computadores - Tecnologia e Ciência (INESC TEC), Portugal
Instituição-sede: Centro Multidisciplinar de Desenvolvimento de Materiais Cerâmicos (CMDMC). Instituto de Química (IQ). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Araraquara. Araraquara , SP, Brasil
Vinculado ao auxílio:98/14324-0 - Multidisciplinary Center for Development of Ceramic Materials, AP.CEPID
Assunto(s):Deposição de filmes finos  Filmes finos  Nanopartículas  Semicondutores  Pulverização catódica 

Resumo

O método dos precursores poliméricos será utilizado para sintetizar nanopartículas de óxidos semicondutores (SnO2, In2O3, ZnO) usadas para fabricar alvos empregados na deposição de filmes finos por RF Magnetron Sputtering. Serão estudadas temperaturas de deposição, pressões, gases (N2, Ar, O2) e potências de RF. Os filmes finos de óxidos semicondutores serão depositados em camadas porosas. As nanopartículas e os filmes finos serão caracterizados por microscopia de força atômica (AFM), microscopia eletrônica de varredura (SEM), difração de Raios-x (XRD), microscopia eletrônica de transmissão (TEM) e medidas de condutividade elétrica pela técnica de quatro pontos. O objetivo final do trabalho é a obtenção de filmes com características adequadas (resistividade, porosidade, tamanho de grão, estado de oxidação, composição, grau de cristalinidade) para aplicações em sensores resistivos para detecção de gases. (AU)