Ednan Joanni | Instituto de Engenharia de Sistemas e Computadores do Porto - Portugal

• Processo: 05/54753-3
• Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Pesquisador Visitante - Internacional
• Vigência: 01 de setembro de 2005 - 31 de agosto de 2006
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
• Pesquisador responsável: Elson Longo da Silva
• Beneficiário: Elson Longo da Silva
• Pesquisador visitante: Ednan Joanni
• Inst. do pesquisador visitante: Instituto de Engenharia de Sistemas e Computadores - Tecnologia e Ciência (INESC TEC), Portugal
• Instituição-sede: Centro Multidisciplinar de Desenvolvimento de Materiais Cerâmicos (CMDMC). Instituto de Química (IQ). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Araraquara. Araraquara , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 98/14324-0 - Multidisciplinary Center for Development of Ceramic Materials, AP.CEPID
• Assunto(s): Deposição de filmes finos Filmes finos Nanopartículas Semicondutores Pulverização catódica

Resumo

O método dos precursores poliméricos será utilizado para sintetizar nanopartículas de óxidos semicondutores (SnO2, In2O3, ZnO) usadas para fabricar alvos empregados na deposição de filmes finos por RF Magnetron Sputtering. Serão estudadas temperaturas de deposição, pressões, gases (N2, Ar, O2) e potências de RF. Os filmes finos de óxidos semicondutores serão depositados em camadas porosas. As nanopartículas e os filmes finos serão caracterizados por microscopia de força atômica (AFM), microscopia eletrônica de varredura (SEM), difração de Raios-x (XRD), microscopia eletrônica de transmissão (TEM) e medidas de condutividade elétrica pela técnica de quatro pontos. O objetivo final do trabalho é a obtenção de filmes com características adequadas (resistividade, porosidade, tamanho de grão, estado de oxidação, composição, grau de cristalinidade) para aplicações em sensores resistivos para detecção de gases. (AU)